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    圖1為本發明實施例提供的一種拋光減薄裝置的結構示意圖；圖2為本發明實施例提供的一種托盤和待加工部件的鍵合固定方式示意圖；圖3為本發明實施例提供的一種磁轉子的結構示意圖；圖4為本發明實施例提供一種磁轉子的旋轉方式的示意圖；圖5為本發明實施例提供的一種拋光減薄方法的流程示意圖。具體實施方式以上是本發明的思想，為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。本發明實施例提供了一種拋光減薄裝置，用于對inp基晶圓等部件進行拋光減薄，如圖1所示，包括托盤10、噴頭11和磁轉子12，當然，本發明實施例中的拋光減薄裝置還包括反應室13等，托盤10、噴頭11和磁轉子12等在反應室13內進行拋光和減薄反應。其中，托盤10，可選為石英托盤，用于固定待加工部件20，待加工部件20包括inp基晶圓。噴頭11用于向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110，以對待加工表面進行拋光。

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