小光斑光斑分析儀性能

來源: 發(fā)布時間:2025-04-09

維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑細(xì)節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計實現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測需求,兼顧實驗室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。半導(dǎo)體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測方案。小光斑光斑分析儀性能

光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù),實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點: 小光斑測量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),避免像素丟失 高功率檢測:狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光,無需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率,降**檢測成本。束腰半徑光斑分析儀操作光斑分析儀培訓(xùn)服務(wù)?維度光電提供線上 + 線下技術(shù)培訓(xùn),包教包會。

小光斑光斑分析儀性能,光斑分析儀

維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒灜h(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實現(xiàn)更高功率激光測量。同時,其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強大的檢測支持。

維度光電聚焦激光領(lǐng)域應(yīng)用,推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。全系產(chǎn)品包含掃描狹縫式與相機式兩大技術(shù)平臺:狹縫式通過正交狹縫轉(zhuǎn)動輪實現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率,可直接測量近 10W 激光,適用于半導(dǎo)體晶圓切割等亞微米級場景;相機式采用面陣傳感器實時捕獲光斑形態(tài),支持皮秒級觸發(fā)同步,分析脈沖激光能量分布。技術(shù)突破包括:基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的 M2 因子算法,實現(xiàn)光束發(fā)散角、束腰位置等 18 項參數(shù)測量;AI 缺陷診斷系統(tǒng)自動識別光斑異常,率達(dá) 97.2%。在工業(yè)實戰(zhàn)中,狹縫式設(shè)備通過實時監(jiān)測光斑橢圓率,幫助某汽車零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%;科研場景下,相機式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性,相關(guān)成果發(fā)表于《Nature Photonics》。針對不同需求,維度光電提供 "檢測設(shè)備 + 自動化接口 + 云平臺" 工業(yè)方案及 "全功能主機 + 定制模塊" 科研方案,助力客戶縮短周期 40% 以上。未來將多模態(tài)融合設(shè)備與手持式分析儀,推動激光測量技術(shù)智能化升級。用于準(zhǔn)直器生產(chǎn)的光斑質(zhì)量分析儀。

小光斑光斑分析儀性能,光斑分析儀

維度光電致力于激光領(lǐng)域的應(yīng)用,將展示一系列針對千瓦級高功率、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中,我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,深度剖析其技術(shù),從光學(xué)原理到智能算法,為您層層揭秘。通過實際操作演示,直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復(fù)雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細(xì)介紹光斑分析儀的工作原理,包括其光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計、信號處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時,我們還將展示光斑分析儀在不同應(yīng)用場景中的表現(xiàn),例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實際應(yīng)用案例。通過這些案例,您可以了解到光斑分析儀如何在各種復(fù)雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外,針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,還涵蓋了其他相關(guān)設(shè)備和軟件,旨在為您提供專業(yè)的技術(shù)支持和服務(wù)。我們的目標(biāo)是幫助您突破技術(shù)瓶頸,在激光領(lǐng)域取得新的突破,從而推動整個行業(yè)的發(fā)展。光束發(fā)散角測量原理是什么?大功率光斑分析儀測量

近場光斑測試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級。小光斑光斑分析儀性能

相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 1. 光斑尺寸 相機式:受限于 sensor 尺寸(≤10mm),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元)。 狹縫式:刀口模式可測小 2.5μm 光斑,適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機式: 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配),可測 1W,需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式:狹縫物理衰減機制支持近 10W 直接測量,無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機式:觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑,兼容性強。 狹縫式:需匹配掃描頻率與激光重頻,易丟失脈沖信息。 4. 光斑形態(tài) 相機式:面陣傳感器保留非高斯光束(如貝塞爾光束)及高階橫模細(xì)節(jié)。 狹縫式:狹縫累加導(dǎo)致復(fù)雜光斑失真,適合高斯或規(guī)則光斑。 選擇建議 狹縫式:亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機式:大光斑、脈沖激光或復(fù)雜非高斯光束分析。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術(shù)方案,適配實驗室與工業(yè)場景的全場景需求。小光斑光斑分析儀性能

標(biāo)簽: 光斑分析儀
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