維度光電自研光斑分析儀原理

維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝，有鎖緊環可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應對 400W 功率光束，多面體結構便于工業或實驗環境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實現更高功率激光測量。同時，其緊湊結構設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產提供了強大的檢測支持。Z-block 器件生產檢驗中的光斑分析儀質量檢測。維度光電自研光斑分析儀原理

Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態復雜度。相機式基于面陣傳感器成像，可測大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元），結合 6 片衰減片（BeamHere 標配）實現 1W 功率測量，適合大光斑、脈沖激光（觸發模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測，通過面陣實時反饋保留復雜形態細節。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測小 2.5μm 光斑，創新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測，但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失，且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術方案，用戶可根據光斑尺寸（亞微米選狹縫，大光斑選相機）、功率等級（高功率選狹縫，微瓦級選相機）及光斑類型（復雜形態選相機，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實現光斑檢測全場景覆蓋。維度光電光斑分析儀怎么測量如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質量？

使用維度光電BeamHere 光斑分析儀開展光斑與光束質量測量的流程 系統搭建：將 BeamHere 相機式光斑分析儀的傳感器置于激光束路徑，通過支架調節位置確保光斑完整覆蓋 sensor。使用 USB 3.0 數據線連接設備與電腦，安裝 BeamHere V3.2 軟件并完成驅動校準。 數據采集：開啟半導體激光器至穩定輸出狀態，軟件選擇 "連續采集" 模式，設置曝光時間 50μs，幀率 100fps，同步觸發激光器確保單脈沖捕捉。 參數提?。很浖詣幼R別光斑區域，計算 FWHM 直徑（XY 軸）、橢圓率、能量集中度等 12 項基礎參數，同時基于 ISO 11146 標準算法生成 M2 因子、瑞利長度等光束質量指標。 可視化分析：切換至 3D 視圖旋轉觀察能量分布，通過 "刀邊法" 驗證光斑對稱性，標記異常區域進行局部放大分析。 報告輸出：點擊 "生成報告" 按鈕，自動插入測試日期、激光器參數、測量曲線等內容，支持 PDF/A4 排版或自定義 LOGO 導出。

維度光電提供光束質量測量解決方案，適用于工業、醫療、科研等多個領域。在工業制造中，用于激光切割和焊接的狹縫式分析儀能實時監測激光束能量分布，優化加工精度；半導體加工中，超高分辨率檢測技術支持晶圓劃片工藝優化。醫療健康方面，相機式分析儀用于眼科手術中激光參數優化，保障手術安全；M2因子模塊用于醫療激光設備校準。領域，雙技術組合用于解析飛秒激光特性，支持非線性光學。光通信領域，相機式分析儀優化光器件耦合效率，狹縫式分析儀確保激光器性能一致性。新興領域如光鑷系統和激光育種也受益于該方案。方案特點包括全場景適配、智能分析軟件和模塊化擴展，以滿足不同需求和長期升級。用于準直器生產的光斑質量分析儀。

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設計：掃描狹縫式側重高功率場景（千萬級功率），通過物理衰減機制實現安全測量，衰減級數達 10?:1，無需外置衰減片；相機式則主打寬光譜（200-2600nm）與實時成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統設備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑；M2 測試模塊支持光束傳播特性動態分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點數據。軟件集成 AI 算法，可自動識別光斑模式，率達 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數據處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。無干涉條紋的光斑質量分析儀。高精度光束質量檢測儀

國產的 M2 因子測量模塊哪家強？維度光電自研光斑分析儀原理

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實現亞微米級光斑分析。創新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機式：400-1700nm 寬譜響應，支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉輪設計擴展功率量程，可拆卸結構兼顧工業檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標準算法，測量 M2 因子、發散角、束腰位置等參數，適配全系產品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標準化報告，滿足光通信、醫療、工業等多場景需求。系統以模塊化設計實現高精度檢測，助力客戶提升效率與產品質量。維度光電自研光斑分析儀原理