多光斑光斑分析儀原廠

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級光斑（如半導體加工）優先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級光斑（如激光焊接）推薦相機式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級：高功率激光（如工業切割）應選狹縫式（直接測量近 10W），微瓦級弱光（如科研實驗）可采用相機式（通過 6 片衰減片適配）。 光束形態：高斯或規則光斑兩者均可（狹縫式更經濟），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機式保留細節。 脈沖特性：單脈沖分析選相機式（觸發同步），連續或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動態監測與大光斑校準選相機式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫療設備：眼科準分子激光需相機式實時監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式，確保手術精度。 ：超短脈沖測量、復雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機式，材料加工優化可結合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測選相機式分析光斑形態，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。近場光斑測試系統怎么搭建？多光斑光斑分析儀原廠

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過配套通用軟件構建完整光束質量評估體系。該系統集成光斑能量分布測繪、發散角測量及 M2 因子計算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數均符合 ISO11146 標準，包括光斑寬度、質心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊，實現光束傳播方向上的束腰定位、發散角測量及 M2 因子計算，終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化，并由軟件?鍵輸出測試報告，精確且?效的完成光束分析。維度科技光斑分析儀操作用于千瓦光斑測量的大功率配件。

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機式（適配衰減片）。 光束形態：高斯用狹縫式（經濟），非高斯用相機式（保留細節）。 脈沖特性：單脈沖用相機式（觸發同步），連續/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業：高功率用狹縫式，動態監測與校準用相機式，組合方案覆蓋全流程。 醫療：相機式監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式確保精度。 科研：超短脈沖與復雜光束分析用相機式，材料加工優化結合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴展規劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景：雙技術組合（狹縫式 + 相機式），實現全場景覆蓋。 長期規劃：科研機構選全功能模塊（M2 因子測試、皮秒同步），工業用戶選基礎款 + 定制接口。

維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創新的狹縫物理衰減機制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝，有鎖緊環可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應對 400W 功率光束，多面體結構便于工業或實驗環境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實現更高功率激光測量。同時，其緊湊結構設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產提供了強大的檢測支持。無干涉條紋的光斑質量分析儀。

維度光電光束質量測量解決方案基于兩大技術平臺： 掃描狹縫式系統：采用正交狹縫轉動輪結構，通過 ±90° 旋轉實現 XY 軸同步掃描，結合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統集成高靈敏度光電探測器，配合高斯擬合算法，實現 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級觸發同步與全局快門技術，捕捉單脈沖光斑形態。算法通過二階矩法計算 M2 因子，測量精度達 ±0.3%。 創新突破： 狹縫物理衰減機制實現 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態范圍擴展技術支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常（率 97.2%）有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產品？可見光光斑分析儀怎么搭建

可用于自動化設備集成的光斑質量分析儀。多光斑光斑分析儀原廠

維度光電光束質量測量解決方案應用場景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業、醫療、科研等多領域： 工業制造：高功率激光切割 / 焊接實時監測，優化熱影響區控制；亞微米光斑檢測保障半導體晶圓劃片良率。 醫療健康：飛秒激光手術光斑能量分析，提升角膜切削精度；M2 因子模塊校準醫用激光設備光束質量。 ：解析超快激光傳輸特性，支持新型激光器；高精度參數測量加速非線性光學實驗進展。 光通信：光纖端面光斑形態優化，保障光器件耦合效率；激光器性能一致性檢測。 新興領域：Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統精度提升；激光育種參數優化推動作物改良。 優勢： 全場景適配：狹縫式（高功率 / 亞微米）與相機式（脈沖 / 復雜光束）組合覆蓋多樣化需求。 智能分析：AI 算法自動識別光斑異常，生成標準化報告。 模塊化擴展：支持 M2 因子測試、寬光譜適配等功能升級。多光斑光斑分析儀原廠