基本信息IUPAC名稱:dioxohafnium元素含量比重:O(oxygen)15.2%、Hf(hafnium)84.8%二氧化鉿分子結構密度:9.68g/cm3熔點:2758℃摩爾質量:210.49g/molCAS號:12055-23-1蒸發壓力:在2678℃時1Pa;在2875℃時10Pa線膨脹系數:5.6×10-6/K溶解度:不溶解于水純度:99.99薄膜特性:透光范圍~220~12000nm;折射率(250nm)~2.15(500nm)~2蒸發條件:用電子***，氧分壓~1~2×10-2Pa。蒸發溫度~2600~2800℃，基片溫度~250℃，蒸發速率2nm/s應用領域:UV增透膜，干涉膜氧化鉿的主要作用有哪些？四川氧化鉿直銷價格
物理性質氧化鉿（HfO2）是白色晶體粉末。純氧化鉿以三種形式存在，一種是無定型狀態，另外兩種為晶體。在＜400℃煅燒氫氧化鉿、氧氯化鉿等不穩定的化合物時，可以得到無定型氧化鉿。將其氧化鉿繼續加熱至450~480℃，開始轉化為單斜晶體，繼續加熱至1000~1650℃發生晶格常數逐步增加的趨勢，并轉化為4個氧化鉿分子的單體。當1700~1865℃Chemicalbook時開始轉化為四方晶系。向氧化鉿中添加少量氧化鎂、氧化鈣、氧化錳等氧化鉿，在1500℃以上可以形成面心立方晶格的固溶體。如向氧化鉿中加8%~20%氧化鈣，則晶格常數α相應從0.5082nm增加至0.5098nm。若添加的量達到形成CaHfO3時，則晶體結構轉化為菱形晶系。單斜晶體氧化鉿的密度為9.68g/cm3，熔點3031K，沸點5673K。山東氧化鉿銷售公司氧化鉿薄膜的特性與應用？
氧化鉿又稱氧化鉿(IV)，它是一種無機化工產品，其分子式為HfO2，分子量為210.4888。存儲方法常溫密閉，陰涼通風干燥。合成方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經灼燒而得。主要用途用于光譜分析及催化劑體系，耐熔材料。系統編號CAS號：12055-23-1MDL號：MFCD00003565EINECS號：235-013-2PubChem號：24873674，毒理學數據主要的刺激性影響：在皮膚上面：刺激皮膚和粘膜在眼睛上面：刺激的影響致敏作用：沒有已知的敏化現象
常用名氧化鉿英文名hafniumoxideCAS號12055-23-1分子量210.48900密度9.68沸點N/A分子式HfO2熔點2812oCMSDS閃點N/A。
氧化鉿用途用于光譜分析及催化劑體系，耐熔材料。儲存條件常溫密閉，陰涼通風干燥穩定性常溫常壓下穩定避免的物料酸計算化學1、氫鍵供體數量：12、氫鍵受體數量：23、可旋轉化學鍵數量：04、拓撲分子極性表面積（TPSA）：34.15、重原子數量：36、表面電荷：07、復雜度：18.38、同位素原子數量：09、確定原子立構中心數量：010、不確定原子立構中心數量：011、確定化學鍵立構中心數量：012、不確定化學鍵立構中心數量：013、共價鍵單元數量：1 氧化鉿的危險性符號？
二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數的氧化物。作為一種介電材料，因其較高的介電常數值(~20)，較大的禁帶寬度(~5.5eV)，以及在硅基底上良好的穩定性，HfO2被認為是替代場效應晶體管中傳統SiO2介電層的理想材料。如果互補金屬氧化物半導體器件尺寸低于1μm，以二氧化硅為傳統柵介質的技術會帶來芯片的發熱量增加、多晶硅損耗等一系列問題，隨著晶體管的尺寸縮小，二氧化硅介質要求必須越來越薄，但Chemicalbook是漏電流的數值會因為量子效應的影響隨著二氧化硅介質厚度的較小而急劇升高，所以急需一種更可行的物質來取代二氧化硅作為柵介質。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料，近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統SiO2/Si結構的發展的尺寸極限問題。氧化鉿是怎么制備而來的？正規氧化鉿市面價
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產品特性與用途二氧化鉿(HfO2)是一種具有較高介電常數的氧化物。作為一種介電材料，因其較高的介電常數值(~20)，較大的禁帶寬度(~5.5eV)，以及在硅基底上良好的穩定性，HfO2被認為是替代場效應晶體管中傳統SiO2介電層的理想材料。如果互補金屬氧化物半導體器件尺寸低于1μm，以二氧化硅為傳統柵介質的技術會帶來芯片的發熱量增加、多晶硅損耗等一系列問題，隨著晶體管的尺寸縮小，二氧化硅介質要求必須越來Chemicalbook越薄，但是漏電流的數值會因為量子效應的影響隨著二氧化硅介質厚度的較小而急劇升高，所以急需一種更可行的物質來取代二氧化硅作為柵介質。二氧化鉿是一種具有寬帶隙和高介電常數的陶瓷材料，近來在工業界特別是微電子領域被引起極度的關注，由于它很可能替代目前硅基集成電路的**器件金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)的柵極絕緣層二氧化硅(SiO2)，以解決目前MOSFET中傳統SiO2/Si結構的發展的尺寸極限問題。生產方法當加熱到高溫時鉿與氧直接化合生成氧化鉿。也可通過其硫酸鹽或草酸鹽經灼燒而得。四川氧化鉿直銷價格