將上述sr摻雜batio3/znte工作電極放入光電化學(xué)反應(yīng)器內(nèi),與鉑片對(duì)電極組裝成兩電極體系,將該電極在+,所用溶液為碳酸丙烯酯,用去離子水清洗后,將光電極在真空條件下50℃干燥10h。之后,采用上海辰華chi660e電化學(xué)工作站,將極化后的sr摻雜batio3/znte工作電極和飽與鉑片對(duì)電極、飽和甘汞電極組裝成典型的三電極體系,電解質(zhì)溶液為。光電流測試前,往電解質(zhì)溶液中鼓co2半個(gè)小時(shí),使溶液中的氧氣排盡,co2濃度達(dá)到飽和。圖4為本實(shí)施例制備的sr摻雜batio3/znte工作電極和水熱法制備的znte薄膜電極在。由圖可知,單獨(dú)的znte光電催化難以產(chǎn)生co產(chǎn)物,說明znte光陰極的大部分載流子不能與co2發(fā)生相互作用,導(dǎo)致界面載流子嚴(yán)重復(fù)合,co產(chǎn)生量很低。但是,sr摻雜batio3/znte工作電極的co產(chǎn)量明顯增加,說明sr摻雜batio3增加了znte表面的載流子濃度,間接證實(shí)了sr摻雜batio3的載流子分離作用。世華高硅光電二極管助你實(shí)現(xiàn)智能生活。上海硅光電硅光電二極管生產(chǎn)廠家
其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個(gè)國家和地區(qū)。實(shí)施例一一種sr摻雜batio3/znte光陰極材料的制備方法,具體步驟如下:稱取、,依次加入2ml乙酸、6ml乙醇和6ml水,攪拌一定時(shí)間,使固體粉末完全溶解;然后,加入,攪拌24h,得到紡絲溶液;移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中,設(shè)置靜電紡絲工藝參數(shù):注射器推進(jìn)速度3mm/h,紡絲電壓18kv,接收距離8cm,滾筒轉(zhuǎn)速200r/min,在固定于滾筒上的fto玻璃上接收固化的復(fù)合纖維,150℃烘箱中干燥過夜,烘干后置于600℃馬弗爐中煅燒2h,熱分解后即可獲得sr摻雜batio3薄膜電極;配制30ml濃度為5mmol/l硝酸鋅、5mmol/l碲酸鈉和,攪拌均勻,轉(zhuǎn)入50ml水熱反應(yīng)釜中;將sr摻雜batio3薄膜電極放入反應(yīng)釜內(nèi),fto導(dǎo)電面朝下,密封水熱反應(yīng)釜,置于恒溫干燥箱中,160℃水熱反應(yīng)10h;反應(yīng)結(jié)束,取出fto電極,水洗3次,60℃下真空干燥8h;干燥后,將薄膜放入管式爐內(nèi),氮?dú)獗Wo(hù)條件下煅燒。中山硅光電硅光電二極管供應(yīng)硅光電二極管廠家就找世華高。
其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個(gè)國家和地區(qū)。采用上海辰華chi660e電化學(xué)工作站,將極化后的sr摻雜batio3/znte工作電極和飽與鉑片對(duì)電極、飽和甘汞電極組裝成典型的三電極體系,電解質(zhì)溶液為。光電流測試前,往電解質(zhì)溶液中鼓co2半個(gè)小時(shí),使溶液中的氧氣排盡,co2濃度達(dá)到飽和。圖3為本實(shí)施例制備的sr摻雜batio3/znte工作電極和水熱法制備的znte薄膜電極的性掃描伏安法圖,掃描速度為20mv/s。由圖可知,znte電極經(jīng)sr摻雜batio3鐵電材料修飾后,光電流密度增加,且co2還原的起始電位正移,說明鐵電材料的極化場對(duì)znte電極的光電流具有明顯的促進(jìn)作用。在可見光照射下,有znte被激發(fā),說明復(fù)合材料光電流的提升來自于鐵電材料的改性作用。實(shí)施例三稱取、,依次加入2ml乙酸、8ml乙醇和8ml水,攪拌一定時(shí)間,使固體粉末完全溶解;然后,加入,攪拌24h,得到紡絲溶液;移取7ml紡絲溶液到10ml注射器中。
世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個(gè)國家和地區(qū)。高反層109由高折射率薄膜與低折射率薄膜交替疊加組成;2)利用等離子刻蝕機(jī)在高反層109上以干法刻蝕開設(shè)刻蝕孔,并刻蝕掉與正面金屬電極106相對(duì)的高反層109;3)刻蝕完成后,在高反層109上以化學(xué)氣相淀積的方法生長電阻率500~1000ohm·cm的n-外延層,其厚度與耗盡區(qū)寬度相當(dāng);4)在外延層101上以as離子源進(jìn)行n型離子注入,注入劑量1e15~2e15,形成保護(hù)環(huán)102。與保護(hù)環(huán)102間距12~20um,在外延層101上以b離子源進(jìn)行p型離子注入,注入劑量1e15~2e15,形成有源區(qū)103;5)在保護(hù)環(huán)102和有源區(qū)103上通過熱氧化法生成sio2層104,在sio2層上方淀積生長si3n4層105;6)接連刻穿si3n4層和sio2層形成接觸孔,然后濺射al,并將濺射層刻蝕形成正面金屬電極106;7)在襯底107背面直接進(jìn)行金屬化處理形成背面電極108。下面給出具體的實(shí)施例。實(shí)施例11)在n+重?fù)诫s的襯底107上濺射生成厚度3~5um的高反層109,2)利用等離子刻蝕機(jī)干法刻蝕工藝在高反層109刻孔;3)高反層109上通過淀積的方法生長n-外延層101。硅光電二極管方案商,一站式服務(wù)商世華高。
水熱時(shí)間為2-12h。地,步驟3所述氮?dú)獗Wo(hù)條件下的煅燒溫度為200-400℃,煅燒時(shí)間為1-6h。本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明創(chuàng)造性地利用靜電紡絲技術(shù)制備了sr摻雜batio3納米纖維電極,該方法制備過程簡單,便于規(guī)?;a(chǎn)。且所制備的sr摻雜batio3鐵電材料自發(fā)極化能力強(qiáng),在外場環(huán)境下產(chǎn)生較強(qiáng)的表面電場,能夠有效的分離znte電極的光生載流子,極大地提高了znte載流子的分離效率,降低了光生載流子的復(fù)合速度,從而為**co2還原反應(yīng)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。附圖說明圖1為實(shí)施例一中制備的sr摻雜batio3納米纖維的掃描電鏡圖。圖2為實(shí)施例一中制備的sr摻雜batio3/znte電極的掃描電鏡圖;圖3為實(shí)施例二中制備的sr摻雜batio3和sr摻雜batio3/znte電極的線性掃描伏安曲線圖;圖4為實(shí)施例三中制備的sr摻雜batio3和sr摻雜batio3/znte電極在。具體實(shí)施方式為了更好的理解本發(fā)明,下面結(jié)合實(shí)施例和附圖進(jìn)一步闡明本發(fā)明的內(nèi)容,但本發(fā)明的內(nèi)容不局限于下面的實(shí)施例。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。濱松光電二極管哪家棒!世華高。中山硅光電硅光電二極管供應(yīng)
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2CU型或2DU型硅光電二極管在性能上都有以下二個(gè)特點(diǎn),我們在使用中應(yīng)予以注意。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司(SIVAGO)成立于2004年,總部設(shè)在深圳,主要負(fù)責(zé)研發(fā)和銷售工作。該公司選擇將汕尾深汕特別合作區(qū)作為生產(chǎn)基地,負(fù)責(zé)光電器件的制造。其產(chǎn)品范圍包括光電二極管、光電三極管、紅外線接收頭、發(fā)射管、發(fā)光二極管、硅光電池、霍爾元件、光電開關(guān)、光電編碼器、紙張感應(yīng)器和光電耦合器等。經(jīng)過十余年的發(fā)展,世華高半導(dǎo)體已成為一家先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造商。公司在全球范圍內(nèi)設(shè)有多個(gè)銷售機(jī)構(gòu),分布在中國、印度、泰國、伊朗、香港等多個(gè)國家和地區(qū)。深圳市世華高半導(dǎo)體有限公司。。上海硅光電硅光電二極管生產(chǎn)廠家