選擇氦質(zhì)譜檢漏儀時主要考慮以下問題：1、儀器的功能能滿足檢漏的要求。如有些儀器沒有逆流檢漏功能，就不適合檢漏；有些儀器沒有報廢漏率的設(shè)置功能，不宜作為批量產(chǎn)品篩選檢漏用；流水線上要求一定的檢漏速度，此時應(yīng)選擇有雙工位的檢漏儀。2、儀器的靈敏度能滿足檢漏的要求。國內(nèi)外生產(chǎn)的不同類型的氦質(zhì)譜檢漏儀的靈敏度是不一樣的，如果檢漏要求的靈敏度較高，就要認真選擇。3、被檢件如果害怕油的污染，就應(yīng)選擇無油真空系統(tǒng)的檢漏儀。4、被檢件容積如果較大，必須選用抽泵抽速大的檢漏儀，否則就要外加預(yù)抽泵。氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是真空檢漏領(lǐng)域里不可缺少的一種技術(shù)。嘉興全自動氦質(zhì)譜檢漏儀原理
使用氦檢儀需注意哪些問題？響應(yīng)時間與清理時間:正常運行的儀器響應(yīng)時間與清理時間不應(yīng)大于3s。氦檢儀的響應(yīng)時間會影響檢漏工作的速度:檢漏時噴有在漏孔處停留的時間應(yīng)為儀器響應(yīng)時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。根據(jù)經(jīng)驗,兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s,如果第1次噴氦后30s內(nèi)氦檢儀還沒有反應(yīng),則可進行第二次噴氦。儀器的清理時間在理論上與響應(yīng)時間相同,但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清理時間一般要更長些。另外,噴氦量的多少也影響清理時間的長短,噴氦時噴頭移動速率合理,可以縮短儀器的清理時間,提高檢漏效率。紹興客制化氦質(zhì)譜檢漏儀多少錢氦檢儀的型號較多，但基本結(jié)構(gòu)大同小異。
氦檢儀是什么？氦檢儀是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器，它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度較高，用得較普遍的氦檢儀器。氦檢儀是磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計。單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器普遍地用于各種真空系統(tǒng)及零部件的檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器相比較，本底噪聲明顯減小。適用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件的檢漏。氦檢儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。
氦檢儀因具備檢測靈敏度高、反應(yīng)速度快、定位定量準(zhǔn)確等優(yōu)點而被普遍應(yīng)用于壓力容器、航空航天、原子能、發(fā)電廠、制冷工業(yè)等領(lǐng)域。氦檢儀在使用過程中，往往會因為產(chǎn)生的一些故障或是現(xiàn)象，而影響檢漏工作的正常進度，若對其置之不理還會危及氦檢儀的使用壽命。其中的有些故障或現(xiàn)象是使用者能夠及時解決或避免的，掌握和了解氦檢儀常見故障的維修技術(shù)，有利于檢漏工作的順利開展以及設(shè)備的保養(yǎng)。氦檢儀熱管檢漏：熱管需要檢漏原因：熱管內(nèi)部填充特殊液體用來增強熱傳導(dǎo)性能，如果熱管本身存在漏點，首先會影響熱管的導(dǎo)熱性能；其次由于熱管都是安裝在設(shè)備內(nèi)部，如果發(fā)生泄漏，里面封裝的液體就會流出，嚴重污染和影響設(shè)備的正常運轉(zhuǎn)，所以熱管生產(chǎn)企業(yè)，都會采用氦檢儀對熱管進行檢漏。氦質(zhì)譜檢漏儀可以對具有內(nèi)腔的微電子或半導(dǎo)體器件封裝的氣密性進行細檢漏。
氦檢儀應(yīng)用領(lǐng)域：工業(yè)：真空爐、鍍膜系統(tǒng)、壓力容器、超高真空工程。高能物理：加速器、束線、同步輻射光源。科研領(lǐng)域：空間模擬系統(tǒng)、試驗裝置、微電子、表面分析系統(tǒng)。半導(dǎo)體及電子：工藝設(shè)備、氣路、氣路傳輸設(shè)備、電子元器件、封裝。汽車制冷：蒸發(fā)器、空調(diào)、管路。核工業(yè)：核電閥門、核容器。航空航天：空間模擬器、航天器、管路。電廠：管道、蒸汽發(fā)生器、熱交換器、冷凝器。氦檢儀是對密封容器的泄漏進行快速定位和定量測量的儀器。氦質(zhì)譜檢漏方法與氣泡識別法、壓強衰減法和鹵素檢漏等方法相比，具有檢測靈敏度高、速度快和適用范圍寬，此外氦檢儀選擇無毒、無破壞性、質(zhì)量輕的惰性氣體氦作為探索氣體，所以安全可靠。氦檢儀本底漏率值是什么？嘉興推車式氦質(zhì)譜檢漏儀使用方法
氦檢儀的實際應(yīng)用方案很多，常用的三種檢漏方法有負壓法（抽真空），正壓法（吸入法）和背壓法（壓氦法）。嘉興全自動氦質(zhì)譜檢漏儀原理
氦檢儀現(xiàn)已普遍應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備檢漏。半導(dǎo)體設(shè)備及材料需要檢漏原因：1、半導(dǎo)體設(shè)備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發(fā)臺、ICP、PECVD等設(shè)備。出現(xiàn)泄漏就會導(dǎo)致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染，對半導(dǎo)體的特性改變并破壞其性能，因此在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過程中必須進行氦質(zhì)譜檢漏；3、一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會失效。綜上所述，氦檢儀在半導(dǎo)體行業(yè)起著至關(guān)重要的作用。嘉興全自動氦質(zhì)譜檢漏儀原理