浙江模塊式氦質譜檢漏儀工作原理

氦質譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種，一種為常規檢漏，另一種為逆擴散檢漏。逆擴散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進入安裝在泵的進氣口端的質譜管內而被檢測。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比)即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設計的。氦質譜檢漏儀是根據被檢工件的不同它所使用的檢漏方法也是不同的。對產品檢漏前首先要對工件的結構和制造工業有所了解，了解有哪些漏源，才能快，準，狠的完成檢漏。氦質譜檢漏技術是真空檢漏領域里不可缺少的一種技術。浙江模塊式氦質譜檢漏儀工作原理

氦質譜檢漏儀在使用時需注意哪些問題？1、氦質譜檢漏儀實際的檢漏靈敏度比理論計算值低，一是由于所噴出的氦氣流是散開的，故摻有一定數量的空氣，使氦氣的濃度有所降低。二是噴出的氣流的方向不可能完全對準漏孔的方向，此外、在凹缺處所存在的空氣會使得進入漏孔的氦氣濃度降低。2、檢漏次序：從被檢件物體的上方至下方，由近處向遠離檢漏儀處逐點進行噴氦檢查。3、檢出的大漏孔要經修補后再去找小漏孔。4、當存在兩個相距很近的可疑的漏孔點時，應先把一個點蓋住，再對另一點進行噴氦。5、當噴在某一點時，如果，檢漏儀上的顯示有變化，其上升速度很慢且顯示值不穩定表示鄰近其它地方有很大漏孔。寧波無損氦質譜檢漏儀品牌高靈敏度氦檢儀的噪聲來源大體上可以分為兩種，一個是離子流接收放大機輸出電路的噪聲，另一個是本底噪聲。

氦檢儀現已普遍應用于半導體設備檢漏。半導體設備及材料需要檢漏原因：1、半導體設備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發臺、ICP、PECVD等設備。出現泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；2、在高真空環境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現泄漏周圍環境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染，對半導體的特性改變并破壞其性能，因此在半導體器件生產過程中必須進行氦質譜檢漏；3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經過氦質譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設備能及時抽走未反應氣體和氣態反應產物，保障工作人員安全和大氣環境。4、芯片封裝，一旦出現泄漏，芯片就會失效。綜上所述，氦檢儀在半導體行業起著至關重要的作用。

氦檢儀作為一種磁偏轉型質譜分析儀器，結構上分單級磁偏轉型和雙級串聯偏轉性，而在結構組成上，大部分氦檢儀就是由質譜室、真空系統以及電氣系統3部分組成的：質譜室是這種真空氦檢儀器的心臟，又包括離子源、分析器、收集器、前級放大器、冷陰極電離真空計等組成部分；真空系統用于為質譜室提供真空工作條件，保證氦離子的傳輸率；電氣系統的重點功能就是為質譜室供電與測量。另外在有些條件下，氦質譜檢漏可能還會需要輔助真空系統，完成一些預抽、保證氦檢儀真空度等工作。氦檢儀噪聲是哪兒來的？

氦檢儀常用的幾種檢漏方法有：氦質譜檢漏方法較多，根據被檢工件的測量目的可分為兩種類型，一種是漏點型，另一種是漏率型；在實際檢驗過程中，應根據檢驗目的選擇較合理的方法，并根據被檢件的具體情況靈活運用各種檢漏方法。測定漏點型氦質譜檢漏方法。確定漏點型既是確定要檢部件的具體漏點或漏孔的位置,在大部件或大型部件中較為常見,如衛星、導彈彈體、彈頭、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐等。噴氦法氦質譜檢漏方法。噴氦法又叫噴吹法，較常用、較方便的檢漏方法。一般用于檢測體積相對較小的部件,將被檢器件和儀器連通,在抽好真空后,在被檢器件可能存在漏孔的地方(如密封接頭,焊縫等)用噴頭噴氦。氦質譜檢漏儀的靈敏度，通常指儀器的可檢漏率。蘇州客制化氦質譜檢漏儀生產廠家

氦檢儀自動校準氦峰，自動調節零點，量程自動轉換，自動數據處理，可外接打印機。浙江模塊式氦質譜檢漏儀工作原理

便攜式氦質譜檢漏儀的明顯優點：1、性價比高：便攜式氦質譜檢漏儀是一款實用的檢漏儀，可覆蓋廣大的應用領域，競爭性的價格及較低的使用成本，大抽速前級泵的設計，可縮短抽氣時間，提高使用效率；2、自我保護功能：在突然暴露大氣和突然斷電時具有保護功能，系統的逆擴散設計保護了質譜室的清潔、真空，且不需要液氮；3、結構靈活：可采用主機與前級泵單獨采買，前級泵可使用油封式旋片泵或渦卷式干泵，對于便攜式氦質譜檢漏儀，既可選擇帶有連接配件的主機形式，也可選擇安裝在兩輪小車上的整體形式。浙江模塊式氦質譜檢漏儀工作原理